1.电子元件用薄膜    例如，Ta、Ta2N、Ta-Al-N、Ta-Si、Cr-SiO、NiCr、Sn、Sb金属膜电阻，SiO、SiO2、Al2O3;、Ta2O5;、TiO2、Al、Zn电容以及 Cr、Cu (Au)、Pb-Sn、PbIn、Au、Pt、A1、Au+Pb+In、Pb+Au+Pb、Al+Cu、ZnO、CdS电极等。

    2.摄像管中的 SbS2、CdSe、Se-As-Te、ZnSe、PbO、光电导面;SnO2、In2O3; 透明电导膜。

    3.半导体元件和半导体集成电路用薄膜    成膜材料有 Ni、Ag、Au-Ge、Ti-Ag-AuAl、AL-Si、AI-Si-Cu、Mo、MoSi、WSi、TiPt-Au、W-Au、MoAu、Cr-Cu-Au半导体膜;SiO2、Al2O3、Si3N4，绝缘膜。

    4.电发光元件中的In2O3;+SnO3，透明光导膜，ZnS、ZnS+ ZnSe、ZnS+CdS荧光体和Al电极，Y2O3;SiO2、Si3N4.、Al2O3,绝缘膜。

    5.传感器件的PbO+In2O3、Pb、NbN、V3Si约夫逊结合膜，Fe-Ni磁泡用膜以及电传感用 Se、Te、CdS、ZnS传感器膜。

    6.制作太阳能板的光电池、透明导电膜、电极以及防反射膜。

    7.液晶显示、等离子体显示和电致发光显示等三大类平板显示器件的透明导电膜，如ITO(氧化铜锡)膜及电致发光屏上多层功能膜，例如YOTa,0等介质膜、ZnSiMn发光膜以及铝电极膜等组成的全固态平板显示器等。

    8.采用ZnO、Ta等薄膜制成的声表面波滤波器等

    9.磁记录与磁头薄膜 例如，高质量录音和录像用的磁性材料薄膜、录音带和录像带计算机数据信息存储软盘、硬盘用CoCrTa、CoCrNi薄膜、垂直记录中的 FeSiAl薄膜、磁带等。

    10.静电复印鼓用的Se-Te、SeTeAs合金膜及非晶硅薄膜等。

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