该设备主要采用化学气相沉积的方式来制备氧化物，有沉积速率快，膜层质量高的特点。在设备结构上，使用双门结构，提高装夹效率，采用最新液态供气系统，流量稳定可控，有效保证工艺稳定性。该设备所制备的膜层，具有良好的水汽阻隔性，在水煮测试中具备更长的稳定周期。
设备可适用于不锈钢、水镀五金件/塑胶件、玻璃、陶瓷等材质，如电子产品、LED灯珠、医药用品等需要抗氧化类产品。主要制备SiOx阻隔膜，有效阻隔水汽，防止腐蚀、氧化，提高产品寿命。
ZHCVD1200
φ1200*H1950(mm)
设备可根据客户要求定制
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