离子镀与蒸发镀、溅射镀相比，最大特点是荷能离子一边轰击基体与膜层，一边进行沉积。荷能离子的轰击作用所产生一系列的效应，主要有如下几点。

    ①膜/基结合力(附着力)强，膜层不易脱落 由于离子轰击基体产生的溅射作用，使基体受到清洗，激活及加热，既可去除基体表面吸附的气体和污染层，也可去除基体表面的氧化物。离子轰击时产生的加热和缺陷可引起基体的增强扩散效应，既提高了基体表面层组织结晶性能，也提供了合金相形成的条件;而且较高能量的离子轰击，还可产生一定的离子注入和离子束混合效应。

    ②离子镀由于产生良好的绕射性 在压力较高的情况下 (大于或等于1Pa) 被电离的蒸气离子或分子在它到达基体前的路程上将会遇到气体分子的多次碰撞，因此可使膜材粒子散射在基体的周围，从而改善了膜层的覆盖性；而且被电离的膜材粒子还会在电场的作用下沉积在具有负电压基体表面的任意位置上，这一点蒸发镀是无法达到的。

    ③镀层质量高 由于离子轰击可提高膜的致密度，改善膜的组织结构，使得膜层的匀度好，镀层组织致密，针孔和气泡少，因此提高了膜层质量。

    ④沉积速率高，成膜速度快，可制备 30um 的厚膜。

 ;   ⑤镀膜所适用的基体材料与膜材均比较广泛 适用于在金属或非金属表面上镀制金属化合物、非金属材料的膜层，如在钢铁、有色金属、石英、陶瓷、塑料等各种材料的表面镀膜。由于等离子体的活性有利于降低化合物的合成温度，因此离子镀比较容易地镀制各种超硬化合物薄膜。

由于离子镀具有上述特点，所以其应用范围极为广泛。利用离子镀技术可以在金属、合金、导电材料甚至非导电材料 (采用高频偏压) 基体上进行镀膜。离子镀沉积的膜层可以是金属膜、多元合金膜、化合物膜，既可镀单一镀层，也可镀复合镀层;还可以镀梯度镀层和纳米多层镀层。采用不同的膜材，不同的反应气体以及不同的工艺方法和参数，可以获得表面强化的硬质耐磨镀层、致密且化学性质稳定的耐蚀镀层、固体润滑层、各种色泽的装饰锁层以及电子学、光学、能源科学等所需的特殊功能镀层。离子镀技术和离子镀的镀层产品已得到非常广泛的应用。

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