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电子枪蒸发镀膜的操作过程

文章作者:广东918博天堂科技
阅读:1188
发布时间:2023-07-14
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    高压电子枪发射的电子束流的密度很大,如果电子束落点控制不当,电子束流不能偏转到金属锭上,可能将镀膜室壁等处加热烧熔,所以按照电子枪的操作程序进行操作很重要。

电子束蒸发镀膜设备.jpg

1)一般电子枪的枪电压是确定的,所以首先开启磁场电源,调到预定的磁场电流。设定磁场强度 H,即确定电子束轨迹,保证电子束的偏转半径按预定的轨迹运行,使电子束斑能落到甘塌内的金属锭上。

2)开启枪的高压电源,枪电压为设定值。

3)开启钨丝加热电源,缓慢加热钨丝。

4)逐渐增大钨丝的加热电流,在坩埚内的金属锭表面可看到电子束束斑。

5)增大灯丝电流预熔金属锭,加大电子束电流将金属锭预熔,可以看到金属液的滚动。如果束斑不在金属锭的中心,可以调磁场电流,稍微改变电子束的偏转半径,使电子束斑点正好落在金属锭中央。

6)继续增大灯丝电流,加大电子束功率充分预熔金属锭,然后打开塌上方的挡板,蒸发的膜料飞向工件形成膜层。

    在e形电子枪的操作中,如果不预先给出磁场电流,电子束不会产生偏转,有可能直接射向其他地方而烧毁某些部件。预定磁场电流的目的是使电子束一出来就按照预定轨道产生偏转。

    为了扩大电子束斑的作用范围,电子枪电源还配有 X一Y扫描系统,使电子束在金属锭表面扫描,扩大金属熔化区域的蒸发面积,使蒸发金属量增多,从而提高沉积速率。

    产业化过程中,必须固定枪电压、磁场电流、钨丝加热电流及扫描条件,还要保证一定的冷却水温度与流量、金属锭的散热量,以确保金属的蒸发量的稳定;否则难以保证膜层质量的重复性,尤其在反应沉积化合物薄膜时,金属的蒸发量一定了,才能保证化合物薄膜的成分符合化学计量比。

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