随着溅射镀膜特别是磁控溅射镀膜技术的日益发展，目前，对何材料都可以通过离子轰击靶材制备薄膜，由于靶材被溅射的过程中将其涂覆到某种基片，对溅射膜的质量有着重要的影响，因此，对靶材的要求也更加严格。在靶材选用上，除了应按膜本身的用途进行选择外，还应考虑如下几个问题：

    1.靶材成膜后应具有良好的机械强度和化学稳定性；

    2.靶材与基体结合必须牢固，否则应采取与基体具有较好结合力的膜材，先溅射一层底膜再进行所需膜层的制备；

    3.作为反应溅射成膜的膜材必须易与反应气体生成化合物膜;

    4.在满足膜性能要求的前提下，靶材与基体的热膨胀系数的差值越小越好，借以减小

溅射膜热应力的影响；

    5.根据膜的用途与性能要求，所选用的靶材必须满足纯度、杂质含量、组分均匀性、机械加工精度等技术要求。

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