空心阴极离子镀膜的工艺过程如下：

1)在塌内放入钦锭。

2)安装工件。

3)抽真空到 5x10-3Pa后，由银管向镀膜室通人氩气，真空度在 100Pa 左右。

4)开启偏压电源。

5)开启弧电源以后引燃空心阴极放电。钮管内产生辉光放电，放电电压为 800~1000V，引弧电流为30~50A。由于辉光放电的空心阴极效应，辉光放电电流密度很大，银管内高密度的鼠离子轰击钜管壁，使管壁迅速升温到发射电子流，放电方式由辉光放电突变为弧光放电，电压为40~70V，电流为 80~300A。银管温度达到2300K 以上，呈白炽状态，从管发射出高密度弧光电子流，并射向阳极。

6) 调整真空度。空心阴极枪产生辉光放电的真空度为 100Pa 左右，而镀膜真空度为8x10-1~2Pa。因此，引燃弧光放电后，尽快减少通入的氩气，将真空度调到适合镀膜的范围。

7)镀钛底层。电子流射到阳极塌的钦金属锭上，动能转换为热能，将钦金属加热蒸发出来，蒸气原子到达工件形成钛薄膜。

8)沉积 TiN。向镀膜室通人氮气，氮气和蒸发出的原子被电离为氮离子和钛离子。在坩埚上方，钛蒸气原子与高密度的低能电子流发生非弹性碰撞的概率较大，使得金属离化率高达 20%~40%，钛离子比较容易与反应气体氮气进行化合反应，沉积获得氮化钵膜层。空心阴极枪既是蒸发源，又是离化源。镀膜时，还应调整坩埚周围电磁线圈的电流，使电子束聚焦到堆塌中心，从而增大电子流的功率密度。

9)关机。膜层厚度达到预定膜层厚度以后，关闭弧电源、偏压电源和气源。