1、离子束辅助沉积 ，主要采用低能离子束，对材料表面改性时发挥助力作用。

（1）离子辅助沉积的特点

    在镀膜过程中一边镀膜，一边用荷能离子束照射沉积的膜层粒子在基材表面不断受到来自离子源的荷能离子的轰击。

（2）离子辅助沉积的作用

    高能离子随时轰击掉结合不牢固的膜层粒子；通过能量的转移，使沉积粒子获得较大的动能，从而改善形核生长的规律；随时对膜层组织产生夯实作用，使薄膜生长得更致密；如果注入的是反应气离子，在材料表面可以形成符合化学计量比的化合物层，化合物层和基材之间没有界面。

2、离子束辅助沉积用离子源

离子束辅助沉积的特点是膜层原子 (沉积粒子)在基材表面不断受到来自离子源的低能离子的轰击，使薄膜组织非常致密，膜层的性能提高。离子束的能量E≤500eV。常用的离子源包括：考夫曼离子源、霍尔离子源、阳极层离子源、中空阴极霍尔离子源、射频离子源等。