高能态的等离子体对高分子材料进行轰击、照射，可以打断高分子材料的分子链、形成活性基团、增加表面能、产生刻蚀等。等离子体表面处理对本体材料内部结构、性能不产生影响，只是表面性能发生很大改变。

  为了不损坏材料本身的特性，等离子体表面改性处理通常不使用较大功率密度的等离子体。这种处理和其他等离子体处理的区别在于:

1)不向处理表面注入离子或原子 (如离子注入)。

2)不去除较大块的材料(如溅射或刻蚀)。

3)不向表面增加超过几个单(原子)层的物质 (例如沉积)。

  总之，等离子体表面处理涉及的只是最外几个原子层。

  等离子体表面改性的工艺参数主要有气体压力、电场频率、放电功率、作用时间等，工艺参数易于调节。等离子体改性过程中，许多活性粒子易于和所接触的处理表面发生反应，可以用来对材料表面进行处理。和传统方法相比，等离子体表面改性具有工艺方法简单、操作简便、成本低、无污染、无废弃物、生产安全、效率高等优点。