1、轰击清晰工件

1）沉积功能薄膜的磁控射离子机中，采用辉光放电产生的氩离子清洗工件。即向镀膜室充入氩气，放电电压为 1000V左右，接通电源以后产生辉光放电，用氩离子轰击清洗工件。

2)产业化生产高端装饰品的磁控溅射镀膜机中，多采用小弧源发射的钛离子进行清洗。磁控溅射镀膜机配置小弧源，用小弧源放电产生的弧光等离子体中的钛离子流轰击清洗工件。

2.镀氮化钛膜层

    沉积氮化钛薄膜时，磁控溅射靶靶材选用钛靶。靶材接磁控溅射电源的负极，靶电压为400~500V；氩气的通入量固定，控制真空度为(3~8)x10-1PA，工件接偏压电源的负极，电压为100~200V。

    开启磁控溅射钛靶电源后产生辉光放电，高能的氩离子轰击溅射靶材，从靶材上溅射出钛原子。

    通入反应气体氮气，钛原子和氮气在镀膜室内被电离成为钛离子、氮离子。在工件所加负偏压电场的吸引下，钛离子、氮离子加速到达工件表面化合反应沉积生成氮化钛膜层。

3.取出工件

达到预定的膜层厚度以后，关闭磁控溅射电源、工件偏压电源、气源。待工件温度低于 120℃后，向镀膜室通人空气，取出工件。

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